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无掩膜EUV光刻，有戏？

半导体行业观察：半导体制造依赖于光刻技术——即将微小的电路图案转移到硅片上的工艺。传统极紫外（EUV）光刻技术通过反射式光学系统投射波长为13.5纳米的光，并利用定制的光掩模（光罩）来定义每一层电路。

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