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光刻掩膜版，奔向12英寸

半导体行业观察：在半导体制造中，最近几十年我们看到了晶体管架构从平面FinFET走向GAA，工艺节点不断缩小，来到2nm以下，光刻光源从436nm（g-line）、365nm（i-line）、248nm（KrF）、193nm（ArF）一路跨越至13.5nm（EUV）。

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