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光刻掩膜版,奔向12英寸

半导体行业观察:在半导体制造中,最近几十年我们看到了晶体管架构从平面FinFET走向GAA,工艺节点不断缩小,来到2nm以下,光刻光源从436nm(g-line)、365nm(i-line)、248nm(KrF)、193nm(ArF)一路跨越至13.5nm(EUV)。

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